16-18 novembre : rendez-vous à Grenoble pour tout savoir sur l’ALD

Le dépôt de couches minces atomiques ou Atomic Layer Deposition (ALD) sera au centre de RAFALD, un workshop de 3 jours organisé mi-novembre par des spécialistes grenoblois du sujet. Au programme : matériaux, équipements, procédés, simulation, le tout à l’attention des industriels, académiques et élèves-ingénieurs en fin de cursus. 50 à 100 participants sont attendus.

La micro-électronique est une grande utilisatrice d’ALD et Grenoble, largement dotée en équipements, est devenue l’un des principaux pôles français. Avec ce workshop, une première à l’échelle française, les organisateurs préparent donc aussi la mise en place d’un réseau national dédié à l’ALD. Outre la micro-électronique, il pourrait attirer des acteurs de l’énergie, du textile, de la biologie et de l’électronique organique.
 

• Contact : carmen.jimenez@grenoble-inp.fr
• Site : www.rafald.org

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