FDSOI 22 nm : le Leti aux côtés de Globalfoundries

Catégorie(s) : Actualités, Industrie, Recherche, Vie de campus

Publié le : 6 décembre 2016

Le FinFET et le FDSOI sont aujourd’hui les deux technologies rivales pour continuer à miniaturiser les circuits CMOS en-deçà des 28nm. Et dans cette rivalité, la mobilisation des grands acteurs joue un rôle-clé. Aussi le Leti, qui mise sur le FDSOI depuis des années, vient de rejoindre 22FDXAccelerator.

Cet écosystème créé par le deuxième fondeur mondial, Globalfoundries, réunit une vingtaine d’industriels et d’instituts de recherche. Il fait la promotion des atouts du FDSOI : ultra-basse consommation, faible coût et meilleures performances en radiofréquence que le FinFet. Il génère briques techniques et brevets, pour encourager des donneurs d’ordres à changer de technologie pour le FDSOI.

Certains pionniers ont déjà fait ce choix : NXP pour sa nouvelle plateforme automotive, ou Sony pour ses prochains produits GPS.

Contact : jean-eric.michallet@cea.fr

 

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