Le CIME s’équipe en MOCVD à injection

Catégorie(s) : Actualités, MINATEC

Publié le : 2 février 2012

Le CIME Nanotech étrenne depuis le début de l’année un équipement de MOCVD à injection. Principale différence avec une MOCVD classique : un injecteur permet l’envoi pulsé de gouttelettes de précurseurs dans l’enceinte de dépôt. Ces précurseurs, préalablement dissous dans un solvant adéquat, sont maintenus à température ambiante et restent plus stables. La vitesse de croissance est contrôlée précisément à partir de l’injecteur.
Cet équipement appartient à la FMNT. Le LMGP l’utilise actuellement pour un projet Minalogic. Il permet de déposer des métaux (argent, platine…) ou des oxydes métalliques amorphes ou cristallisés : oxyde d’yttrium, d’étain, d’aluminium, de silicium, mais aussi matériaux supraconducteurs, ferromagnétiques, ferro-électriques, piézoélectriques etc.

Contact : carmen.jimenez@grenoble-inp.fr

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