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03 octobre 2016
Imagerie sans lentille : Iprasense lance un nouveau produit
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Le laboratoire commun Iprasense – Leti a conçu un nouveau produit, le Cytonote Counter. Ce microscope numérique sans lentille à très grand champ (30 mm2) mesure la viabilité de cellules avec une reproductibilité et une précision inégalées. La mesure de viabilité sans marquage est obtenue par une analyse fine des figures d’interférences obtenues. Il rend […] >>
03 octobre 2016
CoolCube®, plus de 10 millions de contacts 3D au mm2
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10 millions de contacts 3D par mm2, contre 100 000 pour des solutions classiques : le Leti prolonge la roadmap de l’intégration 3D avec sa technologie CoolCube®, développée avec plusieurs industriels dont IBM et STMicroelectronics. Elle permet de superposer et d’interconnecter des transistors FDSOI avec une précision d’alignement lithographique, de l’ordre du nanomètre. C’est la […] >>
03 octobre 2016
Dessine-moi une mémoire résistive
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Mille fois plus rapides que les mémoires flash, les mémoires résistives (ReRAM) sont appelées à les remplacer d’ici quelques années. Le Leti, qui planche déjà sur le sujet pour des industriels, a conçu un outil d’optimisation qui met en équation les principales contraintes de conception d’une telle mémoire. En effet, certaines d’entre elles entrent en […] >>
03 octobre 2016
Un convertisseur de puissance qui tient les 200°C
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Une équipe Leti a réalisé et testé en conditions réelles un convertisseur de puissance capable de fonctionner à une température ambiante de 200 °C, et jusqu’à 250 °C environ. De tels environnements sont courants dans l’automobile, l’aéronautique ou le forage pétrolier. Cette technologie permettrait aussi de réduire voire supprimer le refroidisseur dans des applications plus […] >>
03 octobre 2016
Au LMGP, le dépôt par couches atomiques passe la vitesse supérieure
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Le LMGP a présenté fin septembre à MINATEC son nouveau réacteur SALD (Spatial Atomic Layer Deposition), le premier en France. Il fonctionne à la pression atmosphérique, d’où un coût réduit, et peut réaliser du dépôt par couches atomiques jusqu’à 100 fois plus vite qu’avec un réacteur ALD classique. Les couches sont fines – quelques nanomètres […] >>


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