Un process design kit pour la plateforme photonique 310 nm du Leti

Pour créer des circuits photoniques basés sur la plateforme 310 nm du CEA-Leti, rien de plus simple : il existe désormais un Process Design Kit (PDK) intégré à l’outil de conception Tanner de MENTOR Graphics. Ce PDK donne accès à une bibliothèque de composants éprouvés et permet d’en créer de nouveaux. De plus, il est compatible avec un autre logiciel de MENTOR Graphics qui automatise le routage des lignes optiques et électriques.

Avec cet outil, le Leti facilite la tâche des industriels qui souhaitent fabriquer leurs futurs circuits sur sa plateforme 310 nm et leur fait gagner beaucoup de temps. Principales applications visées : les datacoms, les télécoms, les LIDAR, le calcul haute performance et les puces neuromorphiques. Le Leti et MENTOR Graphics collaborent dans le cadre du consortium IRT Nanoelec.

Contact : eleonore.hardy@cea.fr

Facebook

Twitter