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03 février 2014
La PFNC muscle son parc d’outils de microscopie 3 D
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Un outil de gravure plasma rapide basée sur des ions xénon, un système original de tomographie par rayons X pour l’imagerie 3 D : la Plateforme de nanocaractérisation (PFNC) s’est dotée de deux équipements de pointe pour comprendre et améliorer la fiabilité des composants 3D de grande dimension. L’outil de gravure travaille 60 fois plus […] >>
03 février 2014
Les start-up Cellipse et Avalun élisent domicile au BHT
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Deux nouvelles entreprises de biotechnologies ont intégré MINATEC le 1er janvier. Cellipse est spécialisée dans la recherche et le développement de nouvelles thérapies ciblant la LIM kinase (cible émergente en oncologie, impliquée dans certaines leucémies et sarcomes notamment). Cette année, Cellipse devrait signer des accords de coopération avec les plateaux techniques du CEA et renforcer […] >>
03 février 2014
Phelma se distingue dans le nouveau classement de l’Étudiant
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Cette année, l’Étudiant propose une approche inédite de son palmarès annuel des écoles d’ingénieurs. Le classement décortique l’activité de 160 écoles habilitées par la CTI à travers 37 indicateurs. Charge ensuite aux étudiants de choisir un ou plusieurs critères afin de déterminer le classement qui correspond le mieux à leurs attentes. Si l’on considère l’excellence […] >>
03 février 2014
Pierre Benech entame son second mandat à la tête de Phelma
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Choisi par le conseil d’école en décembre, Pierre Benech a été officiellement reconduit en janvier dans sa fonction de directeur de Grenoble INP – Phelma pour une durée de 5 ans. Poursuivant les actions engagées depuis 2008, il souhaite mettre à profit ce second mandat pour faire grandir encore l’école et l’intégrer pleinement dans les […] >>
03 février 2014
Un nouvel équipement de lithographie au CIME Nanotech
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Le CIME Nanotech s’est équipé récemment d’un nouvel équipement de lithographie qui intègre deux procédés innovants. Le premier est un procédé de nano-impression, avec contrôle de l’étape de pressage/séparation par une matrice d’actionneurs, qui réduit les défauts induits lorsque cette étape est réalisée manuellement. Le second procédé permet de réaliser une lithographie sans résine, grâce […] >>


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