Un livre blanc pour découvrir l’Atomic Layer Deposition

Disponible gratuitement sur le site de l’éditeur Techniques de l’ingénieur, le livre blanc « Principes et applications de la technique ALD » présente en 225 pages l’essentiel de ce processus. Il a été rédigé en français par une vingtaine de scientifiques impliqués dans le Réseau des acteurs français de l’ALD (RAFALD). Parmi eux, des chercheurs du LMGP, du LTM et du CEA.
Les premiers chapitres abordent les fondamentaux de l’Atomic Layer Deposition (ALD), qui permet d’obtenir des couches ultra-minces (quelques nm) très homogènes et conformes dont on peut contrôler précisément les états de surface. Les suivants passent en revue ses diverses applications : microélectronique, piles à combustible, santé, textiles, optique, photonique, MEMS… L’ouvrage s’adresse à un public de techniciens, d’ingénieurs et de chercheurs.

Pour télécharger le livre blanc : goo.gl/WH8k21

Contact : carmen.jimenez@grenoble-inp.fr

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