Une puce entière cartographiée en très haute résolution

Cartographier une puce complète de plusieurs centimètres carrés avec une résolution sub-nanométrique ? Les chercheurs en microélectronique en rêvaient mais butaient – entre autres – sur la lourdeur du traitement des données obtenues par microscopie interférométrique.
Une équipe Leti vient d’optimiser ce traitement : plus besoin de choisir entre haute résolution sur une partie de la puce ou résolution grossière sur toute la puce.
A terme, la cartographie très haute résolution permettra d’évaluer la planéité de la puce lors de contrôles en ligne, après les étapes de polissages mécano-chimiques (CMP) qui jalonnent sa fabrication. Cette planéité est impérative pour élaborer des motifs par procédé optique et empiler des transistors sur plusieurs niveaux. Un brevet a été déposé.

Contact : florent.dettoni@cea.fr

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